相关文章

Related articles

产品中心/ PRODUCTS

我的位置:首页  >  产品中心  >    >    >  104-002-10-40Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件
Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件
  • 产品型号:104-002-10-40
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-09-01
  • 访  问  量:82
简要描述:

Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件
  德国Hellma(豪玛)氟化钙CaF₂单晶,德国耶拿基地坩埚下降法自主生长,高纯99.999%+原料,杂质<1ppm,透光覆盖130nm‑9μm(真空紫外到中红外),是半导体DUV光刻、高功率准分子激光、航天空间光学、FTIR红外光谱、拉曼检测的核心光学基材。

在线咨询

联系电话:18513086679

产品详情

Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件

  德国Hellma(豪玛)氟化钙CaF₂单晶,德国耶拿基地坩埚下降法自主生长,高纯99.999%+原料,杂质<1ppm,透光覆盖130nm‑9μm(真空紫外到中红外),是半导体DUV光刻、高功率准分子激光、航天空间光学、FTIR红外光谱、拉曼检测的核心光学基材。

Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件

  完整工艺链:晶体生长‑高温退火‑切割‑研磨‑超精密抛光;每批次提供原厂检测证书,包含纯度、光学均匀性、LIDT激光损伤阈值、应力双折射检测报告,数据可溯源PTB德国计量院。

  ✨核心优势

  1.超宽光谱透过:130nm深紫外即可高透过,193nm内部透过率>99.6%/cm;中红外2‑7μm透过稳定>90%,弥补石英无法到达中红外波段短板。

  2.极低色散,消色差能力强:阿贝数νd=95.23,显著降低光学系统色差,大幅提升成像、光谱检测精度Hellma。

  3.低应力双折射:退火工艺优化,应力双折射≤0.5 nm/cm,折射率均匀性<5ppm,减少成像畸变,适配光刻等高精度场景。

  4.高激光耐久性能:低非线性折射率,高激光损伤阈值,适配193/248nm准分子激光,长期高能量辐照不易老化,延长元件寿命Hellma.。

  5.大尺寸供货:单晶最大φ250mm;多晶毛坯最大φ440mm;厚度最大150mm;晶向支持标准<111>,可定制<100>等特殊晶向。

  6.耐辐照稳定:抗电离辐射,适合太空、航天载荷等严苛环境;低荧光,光谱测试背景干扰极低。

Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件

  典型应用场景

  ✅半导体光刻:193nm/248nmDUV光刻物镜、照明系统、准分子激光谐振腔窗口,芯片制程光学核心坯料

  ✅高功率激光:准分子激光窗口、光束传输元件、真空腔窗口、医用激光光学组件

  ✅航天天文光学:空间望远镜、卫星载荷光学窗口,太空辐照环境稳定工作

  ✅分析仪器:FTIR傅里叶红外光谱、拉曼光谱仪、紫外分光光度计光学窗口

  ✅真空设备:真空紫外窗口、特种工况观察窗口

  可提供供货形态

  1.晶体毛坯(精磨毛坯,可客户二次加工)

  2.抛光窗口片、棱镜坯料

  3.支持超精密加工:Ra≤0.3nm超精抛光、楔角、特殊外形

  4.配套可选:增透膜AR、抗激光损伤镀膜方案技术支持

  Q:Hellma氟化钙和普通国产CaF₂核心差异?

  A:Hellma自主晶体生长,高纯原料,严格退火,应力双折射、深紫外透过、激光耐久指标控制严苛,每批带全套检测证书,适配光刻、航天等高可靠性要求场景。

  Q:可以提供哪些晶向?

  A:标准<111>;可定制<100>以及其他特殊晶体取向。

  Q:最大可以做到多大尺寸?

  A:单晶最大φ250mm;多晶毛坯最大φ440mm

Hellma氟化钙晶体 CaF₂窗口片激光光学元件

在线咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7