Hellma氟化钙CaF₂精密光学晶体
　　德国Hellma作为百年光学材料品牌，依托耶拿顶尖光学技术积淀，打造的高纯氟化钙CaF₂单晶晶体，是当前高精密光学、半导体光刻、激光科研领域的核心基材

Hellma氟化钙CaF₂精密光学晶体

　　德国Hellma作为百年光学材料品牌，依托耶拿顶尖光学技术积淀，打造的高纯氟化钙CaF₂单晶晶体，是当前高精密光学、半导体光刻、激光科研领域的核心基材，凭借的光学性能与稳定品质，成为行业应用的材料。

　　该氟化钙晶体采用高纯原料自主生长，搭配精密高温退火工艺，拥有130nm–9μm超宽光谱透过范围，覆盖真空紫外、可见光至中红外波段，弥补石英光学材料的波段短板。产品具备极低色散特性，可有效消除光学系统色差，同时应力双折射数值极低、光学均匀性优异，从根源提升成像与检测精度，适配各类高精度光学设备严苛工况。

　　在核心性能上，Hellma氟化钙拥有超高激光损伤阈值与低非线性折射率，抗激光辐照、耐老化，可长期稳定适配193nm、248nm准分子激光等高功率激光场景。同时具备优异的抗电离辐射、低荧光特性，光谱检测无干扰，环境适应性，可满足航天空间、真空科研等特殊严苛场景使用需求。

　　产品规格齐全，支持大尺寸毛坯及定制加工，标准晶向成熟，可按需定制特殊晶向、超精抛光及镀膜处理，供货形态涵盖晶体毛坯、精密窗口片、光学坯料等，适配多元化加工与应用需求。依托出众的综合性能，该材料已落地多个精密领域实景应用：半导体行业中，广泛用于193nm/248nmDUV光刻设备的物镜模组与准分子激光谐振腔窗口，保障芯片光刻制程的高精度稳定性；精密检测领域，适配FTIR傅里叶红外光谱仪、紫外拉曼检测仪核心光学窗口，规避荧光干扰，提升检测数据精准度；激光工业场景，多用于高功率准分子激光设备、医用激光诊疗设备的透光元件，耐受长期高能辐照；同时批量应用于航天卫星载荷光学窗口、真空科研设备、天文观测仪器等严苛工况场景。凭借全场景适配能力，成为国内外精密光学项目的氟化钙基材。

　　核心优势

　　1.超宽光谱透过：130nm深紫外即可高透过，193nm内部透过率＞99.6%/cm；中红外2‑7μm透过稳定＞90%，弥补石英无法到达中红外波段短板。

　　2.极低色散，消色差能力强：阿贝数νd=95.23，显著降低光学系统色差，大幅提升成像、光谱检测精度Hellma。

　　3.低应力双折射：退火工艺优化，应力双折射≤0.5 nm/cm，折射率均匀性＜5ppm，减少成像畸变，适配光刻等高精度场景。

　　4.高激光耐久性能：低非线性折射率，高激光损伤阈值，适配193/248nm准分子激光，长期高能量辐照不易老化，延长元件寿命Hellma

Hellma氟化钙CaF₂精密光学晶体